核徑跡綜合防偽標識介紹
2019-08-30
核徑跡綜合防偽標識圖案由每平方厘米幾十萬到幾百萬個微米級微孔組成。微孔在光線下反射形成白色圖案。微孔孔徑很小，孔數(shù)很多，微孔在平面上按統(tǒng)計規(guī)律分布，孔道為圓柱形，具有良好的透氣、透水性能。通過模擬試驗，證明利用激光打孔或機械加工手段，無法制得和核微孔防偽膜類似的產(chǎn)品。
核徑跡綜合防偽標識的制造過程是一個核物理、光電、生化等多個學科知識交織組合應(yīng)用的過程，需要強大的科技力量和昂貴的設(shè)備支持做保證，其技術(shù)難度高，工藝復(fù)雜性不是一般的商業(yè)企業(yè)可以涉足的。
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