核徑跡綜合防偽標(biāo)識(shí)的特點(diǎn)
2019-08-29
1．核孔膜的制造需要尖端的核技術(shù)和昂貴的核設(shè)施，這些敏感的核設(shè)施都控制在的大型核技術(shù)研究單位里，都在國(guó)家核安全局的監(jiān)管之下，造假者很難具備。
2．一般核電站的反應(yīng)堆不能用來制造核徑跡防偽膜，只有特殊結(jié)構(gòu)的反應(yīng)堆才能用來制造核徑跡防偽標(biāo)識(shí)。
3. 核孔膜的制造需要高質(zhì)量的科技人員．高能物理技術(shù)和核技術(shù)，都是當(dāng)今世界的尖端技術(shù)，在世界上也只有少數(shù)國(guó)家能掌握。
4．孔在微觀上分布是不均勻的，按隨機(jī)規(guī)律分布．由重離子加速器生產(chǎn)的核徑跡防偽標(biāo)志膜，它的孔道基本是平行的，而用核反應(yīng)堆生產(chǎn)的核徑跡防偽標(biāo)志膜，它的孔道是有一定的散射角分布的，后者更不容易仿造。
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